科华微电子成立于2004年8月,是集光刻胶研发、消费、检测、销售于一体的中外合资企业,也是国际独一一家拥有高档光刻胶自主研发及消费实力" />

配资公司排行国际独一拥有ASML曝光机的光刻胶企

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ql-align-center"></p><p class="ql-align-justify">科华微电子成立于2004年8月,是集光刻胶研发、消费、检测、销售于一体的中外合资企业,也是国际独一一家拥有高档光刻胶自主研发及消费实力的国度级高新技术企业。</p><p class="ql-align-justify">据科华微电子官网引见,该公司拥有中高档光刻胶消费基地:2005年,建成百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂消费线;2009年5月,建成高档G/I线正胶消费线和正胶配套试剂消费线;2

012年12月,科华微电子建成248nm光刻胶消费线。</p><p class="ql-align-justify">同时,科华微电子还是中芯国际、华润上华、杭州士兰微、吉林华微电子、三安光电、华灿光电、德豪光电等客户的波动协作同伴。</p><p class="ql-align-justify">此外,沃衍资本音讯显示,科华微电子还是目前国际独

一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司,其最小分辨率可达0.11um。经过与客户晶圆厂异样的检测设备配置,完成了上下游产品检测的无缝对接。</p></div>',